Rambler's Top100
Все новости Новинки

AMD и IBM: первый успех на пути к 22-нм техпроцессу

28 февраля 2008

Компании совместно изготовили образец микросхемы, в которой первый слой металлических соединений целиком создан с помощью EUV-литографии. Благодаря данной технологии в 2016 г. индустрия сможет перейти на 22-нм технологический процесс.

Предыдущие образцы, полученные с помощью EUV-литографии (литографии с использованием жесткого ультрафиолетового излучения), не были «полномасштабными», поскольку при их производстве EUV-литография была задействована лишь для малой части микросхемы.


AMD и IBM: первый успех на пути к 22-нм техпроцессуПредставленный пробный образец микросхемы размером 22x33 мм был изготовлен с использованием 45-нм технологии.


Сначала пробная микросхема AMD прошла обработку на фабрике Fab 36 в Дрездене, Германия. Затем подложка с пробной микросхемой была передана в исследовательский центр IBM, находящийся в Олбани, штат Нью-Йорк, где при помощи сканера был перенесен первый слой металлических соединений между транзисторами, изготовленными в Германии. Результаты были представлены доктором Бруно Ла Фонтеном (Bruno
La Fontaine) из AMD.


«Эта важная демонстрация потенциала EUV-литографии, которая будет использоваться в полупроводниковом производстве в грядущие годы, вдохновляет всех нас, — говорит Фонтен. — Хотя предстоит еще немалая работа, прежде чем EUV-литография сможет использоваться в крупномасштабном производстве».


Следующим шагом проверки применимости EUV-литографии в производстве станет использование технологии не только для металлических соединений, но и для всех слоев микросхемы.


Литография позволяет переносить на множество слоев кремниевой подложки сложные микросхемы с миллионами транзисторов. То, насколько миниатюрными могут быть транзисторы и их соединения, напрямую зависит от длины волны света, используемого для переноса схемы на подложку. В EUV-литографии используется длина волны 13,5 нм, которая значительно короче применяемой сегодня в литографии длины волны 193 нм.


EUV-литография должна быть полностью проверена и допущена к производству до 2016 г., на который запланировано введение 22-нм технологического процесса. Современные микросхемы имеют топологический уровень 45 нм. Такие чипы выпускает, например, Intel, однако сама AMD планирует приступить к производству аналогичных микросхем только во II половине
2008 г.

Источник: CNews

Поделиться:
Заметили неточность или опечатку в тексте? Выделите её мышкой и нажмите: Ctrl + Enter. Спасибо!

Оставить свой комментарий:

Для комментирования необходимо авторизоваться!

Комментарии по материалу

Данный материал еще не комментировался.