Минпромторг вложит 5,7 млрд рублей в оборудование для радиоэлектроники

“КоммерсантЪ” обнаружил на портале госзакупок, что Минпромторг провел тендер стоимостью 5,7 млрд руб. на разработку отечественной фотолитографической установки с минимальной топологией 130 нм. Конкурс объявлен 28 сентября, 18 ноября комиссия выбрала победителя — АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (АО ЗНТЦ), ему предстоит выполнить работы до ноября 2026 года.

Установка должна состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения (ПО), следует из документации к тендеру.

«Одним из основных компонентов оборудования станет отечественный лазер. Мы рассматриваем несколько партнеров»,— уточнил “Ъ” гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев.

Топ-менеджер крупного производителя электроники говорит, что, если подрядчик сумеет разработать оборудование, на нем можно будет производить чипы топологией от 130 нм до 65 нм (используются в интернете вещей, кассовом оборудовании, автомобильной электронике). Intel выпустила процессор Intel Pentium 4 по технологии 65 нм еще в 2006 году.

Отсутствие оборудования остается одной из главных проблем развития российской отрасли радиоэлектроники.

До 2030 года стоит задача разработать оборудование с проектными нормами 250–28 нм, а также решения для норм 22–20 нм, 16–14 нм (используются в процессорах для ПК, серверов и смартфонов), следует из стратегии отрасли, утвержденной правительством в январе 2020 года. Минпромторг к 2023 году готовит план по перевооружению российских радиоэлектронных предприятий (см. “Ъ” от 18 ноября). «Россия не выпускает фотолитографию, мы с трудом можем закупать ее за границей, особенно с учетом санкций,— говорит источник “Ъ”, близкий к министерству.— Единственный выход — постепенно пройти весь путь развития от старых до современных технологий». По его словам, самая прогрессивная топология, которая сейчас используется российскими производителями,— 90 нм.

Разработка установок — выполнимая задача, но потребуется кооперация российских предприятий, которые могут выступить субподрядчиками, считает исполнительный директор Ассоциации разработчиков и производителей электроники Иван Покровский. «Технология 130–65 нм не самая современная, но самая ходовая для современных микроконтроллеров и множества периферийных микросхем»,— говорит он. Потенциально серийный выпуск оборудования может снизить зависимость российских компаний от фотолитографических установок голландской ASML, но о полной импортонезависимости речи пока не идет, считает топ-менеджер производителя электроники: «Россия все еще долго будет вынуждена закупать фоторезисты и кремниевые пластины в США, Франции и Японии».

Заметили неточность или опечатку в тексте? Выделите её мышкой и нажмите: Ctrl + Enter. Спасибо!